发明名称 一种提高利用率的平面磁控溅射靶
摘要 一种提高利用率的平面磁控溅射靶,其特征在于包括靶材磁控管外套,靶材磁控管外套的底面连接盖板,盖板与靶材磁控管外套之间有冷却水,靶材磁控管外套内部放置磁额,磁额中制有通水孔,磁额上安装永久磁铁,靶材磁控管外套上安装靶材条和靶材条外侧有靶材条固定块,靶材条成平行相间排列,靶材条之间互相交叠,靶材条的表面为平整面,在靶材磁控管外套和靶材条固定块外有靶材屏蔽罩,靶材磁控管外套内与磁额相连的永久磁铁的磁极为NSN或者SNS平行排列,并垂直于靶材条的表面。
申请公布号 CN102071401A 申请公布日期 2011.05.25
申请号 CN200910154939.2 申请日期 2009.11.25
申请人 范家秋 发明人 范家秋
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 王官明
主权项 一种提高利用率的平面磁控溅射靶,其特征在于包括靶材磁控管外套(4),靶材磁控管外套(4)的底面连接盖板(15),盖板(15)与靶材磁控管外套(4)之间有冷却水,靶材磁控管外套(4)内部放置磁额(7),磁额(7)中制有通水孔(8),磁额(7)上安装永久磁铁(6),靶材磁控管外套(4)上安装靶材条(1)和靶材条外侧有靶材条固定块(11),靶材条(1)成平行相间排列,靶材条之间互相交叠,靶材条(1)的表面为平整面,在靶材磁控管外套(4)和靶材条固定块(11)外有靶材屏蔽罩(10),靶材磁控管外套(4)内与磁额(7)相连的永久磁铁(6)的磁极为NSN或者SNS平行排列,并垂直于靶材条(1)的表面。
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