一种防止微波反应溅射台靶中毒的金属靶装置

摘要

本发明涉及一种防止微波反应溅射台靶中毒的金属靶装置，它属于金属淀积技术领域。本发明是由两只半圆弧状的金属靶相对安置构成，在金属靶的外围安置一个圆筒。本发明能够使金属靶与圆筒之间没有起辉、拉弧的迹象，溅射炉炉壁及金属靶也没有溅射附着物，金属靶内壁起辉正常，实施本发明节约金属靶材料50％；节约轰击能量50％；大大减少附壁效应，即降低炉壁污染；提高沉积速率一倍，除仍然适合纳米膜的沉积外，也能够沉积微米膜。

主权项

一种防止微波反应溅射台靶中毒的金属靶装置，它是由两只半圆弧状的金属靶相对安置构成，其特征在于在金属靶的外围安置一个圆筒。