| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。具体地，公开了一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维(1D)编码器头，其安装在可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个配置成沿测量方向发射测量束；一个或更多个参照目标，其安装在可移动物体和另一物体中的另一个上，每个所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、以与所述两个或更多个一维(1D)编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于相应的所述参照目标的平面表面。 | ||
| 申请公布号 | CN102072742A | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
| 申请号 | CN201010544831.7 | 申请日期 | 2010.11.11 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | E·A·F·范德帕斯卡;E·J·M·尤森;E·R·鲁普斯卓 |
| 分类号 | G01D5/38(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G01D5/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种位置测量系统，用以测量可移动物体相对于另一物体的位置，所述系统包括：两个或更多个一维编码器头，其安装在所述可移动物体和所述另一物体中的一个上，并且每一个一维编码器头配置成沿测量方向发射测量束；参照目标，其安装在所述可移动物体和所述另一物体中的另一个上，所述参照目标包括具有栅格或光栅的平面表面、用以与所述两个或更多个一维编码器头协作；和处理器，配置成基于所述两个或更多个一维编码器头的输出计算可移动物体的位置，其中所述两个或更多个一维编码器头的每一个的测量方向不垂直于所述参照目标的平面表面。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||