| 发明名称 | 成膜方法及处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜方法，是在可抽真空的处理容器内对在表面具有凹部的被处理体的表面实施成膜处理的成膜方法，其特征在于，包括：使用含过渡金属原料气体通过热处理形成含过渡金属膜的含过渡金属膜形成工序；和形成包含元素周期表的VIII族的元素的金属膜的金属膜形成工序。 | ||
| 申请公布号 | CN102077325A | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
| 申请号 | CN200980124821.3 | 申请日期 | 2009.07.07 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 松本贤治;水泽宁 |
| 分类号 | H01L21/285(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/285(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李伟;舒艳君 |
| 主权项 | 一种成膜方法，在可抽真空的处理容器内对在表面具有凹部的被处理体的表面实施成膜处理，其特征在于，包括：使用含过渡金属原料气体通过热处理形成含过渡金属膜的含过渡金属膜形成工序；及形成包含元素周期表的VIII族的元素的金属膜的金属膜形成工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||