发明名称 |
浸没光刻机的浸液供给装置 |
摘要 |
本发明涉及一种浸没光刻机,尤其是涉及一种浸没光刻机的浸液供给装置。公开了一种浸没光刻机的浸液供给装置,包括浸液单元和浸液废弃单元,所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接,所述负压回收管路设有缓冲泄压结构。本发明通过在负压回收管路填充多孔介质材料或在负压回收管路管壁设置具有缓冲泄压作用的泄压凹腔的方式或两者同时采用方式来从源头阻隔振动源,进而抑制和消除振动传递,以达到减振的目的,确保浸液单元流场的稳定和均一性,以减少浸液波动对投影物镜及其上参考框架上灵敏度传感器的影响。由于浸液供给装置与光刻机本身解耦减振,故有利于干法光刻机到浸没光刻机的系统改造、集成和技术继承。 |
申请公布号 |
CN101477314B |
申请公布日期 |
2011.05.25 |
申请号 |
CN200910045590.9 |
申请日期 |
2009.01.20 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
孙文凤;陈文煜 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种浸没光刻机的浸液供给装置,包括浸液单元和浸液废弃单元,所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接,其特征在于:所述负压回收管路设有缓冲泄压结构,所述缓冲泄压结构包括设置在负压回收管路管壁的泄压凹腔,所述泄压凹腔具有弧形凹口表面且凹口表面覆盖有弹性薄膜。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 |