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发明名称 SILICON OXIDE FILM, METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM, AND PLASMA CVD APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20110055700(A) 申请公布日期 2011.05.25
申请号 KR20117007190 申请日期 2009.09.30
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HONDA MINORU;NAKANISHI TOSHIO;KOHNO MASAYUKI;MIYAHARA JUNYA
分类号 H01L21/316;H01L21/205 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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