| 主权项 |
一种靶材牌组(target tile set)，包含复数个具有一溅镀物质的靶材牌，该等靶材牌可被组合成一阵列，且相邻的靶材牌具有相邻边，该些相邻边系经过粗糙化，并以互补角倾斜，以于该些相邻边之间形成一或多个倾斜的间隙。如申请专利范围第1项所述之靶材牌组，其中该等互补角的角度是在靶材牌主要表面的一介于10度至55度的一范围内。如申请专利范围第2项所述之靶材牌组，其中该范围是介于靶材牌主要表面的15度至45度之间。如申请专利范围第1项所述之靶材牌组，其中该等经过粗糙化的边是由喷砂处理所形成的。如申请专利范围第1项所述之靶材牌组，其中该等靶材牌大致为矩形的形状。如申请专利范围第4项所述之靶材牌组，其中该阵列具有一大致矩形的轮廓。一种包含复数个靶材牌的靶材，该等靶材牌可被组合成为一靶材牌阵列且具有一溅镀物质层，该溅镀物质层在该等靶材牌之间是不连续的，以及该等靶材牌的周边边缘系经过粗糙化，并相对于该层之主要表面的一法线而言以一角度倾斜。如申请专利范围第7项所述之靶材，其中该角度是相对于该法线的10度至55度的范围之内。如申请专利范围第8项所述之靶材，其中该角度约为15度。一种靶材组件，包含：一背撑板；及复数个靶材牌，其结合至该背撑板并具有互补的成斜面的且经粗糙化的边，以在该等靶材牌之间形成一或多个倾斜的间隙。如申请专利范围第10项所述之靶材组件，其中该一或多个倾斜的间隙相对于该等靶材牌主要表面之法线被倾斜一介于10度至55度范围内的角度。如申请专利范围第10至11项中任一项所述之靶材组件，其中该等靶材牌包含一靶材物质的至少一表面区域，且更包含该靶材物质形成在该背撑板上在该间隙的一底部处的一区域。如申请专利范围第12项所述之靶材组件，其中该靶材物质的该区域从该间隙的该底部横向延伸至介于该等靶材牌与该背撑板之间的区域。如申请专利范围第10项所述之靶材组件，其中在该一或多个间隙底下之该背撑板的一区域系经选择性地粗糙化。一种靶材组件，包含：一背撑板，其包含一第一物质的一表面区域；复数个靶材牌，其包含一不同于该第一物质的第二物质且被结合至该背撑板上，其中该等靶材牌之相面对的经粗糙化且倾斜的边缘形成一或多个介于该等靶材牌之间倾斜的间隙；及一或多个由该第二物质所构成的区域，设置在该背撑板与该一或多个间隙之间。如申请专利范围第15项所述之靶材组件，其中该一或多个区域从该等间隙横向地延伸至该背撑板与该等靶材牌之间的中间区域。如申请专利范围第15或16项所述之靶材组件，其中该一或多个区域包含一或多个沉积在该背撑板上的涂覆层。如申请专利范围第15或16项所述之靶材组件，其中该一或多个区域包含一条带，该条带具有结合至该背撑板的该第二物质。如申请专利范围第15或16项所述之靶材组件，其中该一或多个间隙系相对于该等靶材牌主要表面的法线倾斜一介于15度至45度范围内的角度。一种溅镀方法，其包含以下的步骤：提供一电浆溅镀反应器，该电浆溅镀反应器包括一支撑件；将一靶材安装在该反应器上且位于与该支撑件相对的位置处，该靶材包含复数个靶材牌，该等靶材牌具有将被溅镀的物质，其中该等靶材牌中相邻靶材牌的相对边系经粗糙化并以互补角倾斜，以在相对边之间形成至少一个倾斜的间隙；将一基材放置在该支撑件上；及于该溅镀反应器内激发一电浆，以将该物质从该等靶材牌溅镀至该基材上。如申请专利范围第20项所述之方法，其中该倾斜的间隙相对于该些靶材牌主要表面的法线被倾斜一介于10度至55度范围内的角度。 |
