| 主权项 |
一种光源系统，其包含有：至少一光源，用以产生随机偏极光线；以及一模组增亮装置(P-S converter)，设于该光源之一侧，以使该随机偏极光线直接射入该模组增亮装置中，该模组增亮装置包含有：至少一光偏极化元件，而该光偏极化元件包含有：一第一双折射面，其一面为第一穿透面，与之相反一面为第一反射面，该第一穿透面用以反射该随机偏极光线之一第一偏极分量，并使该随机偏极光线之一第二偏极分量通过；以及一第二双折射面，其一面为第二穿透面，与之相反一面为第二反射面，该第二穿透面用以反射该随机偏极光线之该第二偏极分量，并使该随机偏极光线之该第一偏极分量通过；其中该第一反射面将由该第二穿透面反射的该随机偏极光线之该第二偏极分量朝远离该光源的方向反射而离开该光偏极化元件；该第二反射面系用以将射向其上的光线朝远离该光源之方向反射而离开该光偏极化元件；以及至少一偏极调变元件对应该第一双折射面设置，用于将该第一反射面反射的该随机偏极光线之第二偏极分量以及经由该第一穿透面通过的该随机偏极光线之该第二偏极分量旋转偏极。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该模组增亮装置进一步包含另一偏极化元件，该另一偏极化元件包含另一第一双折射面，该模组增亮装置还包含对应该另一第一双折射面的另一偏极调变元件，该第二双折射面位于该两个第一双折射面之间，该另一第一双折射面一面为第一穿透面，与之相反一面为第一反射面，该第二反射面用以将该另一第一双折射面的第一穿透面反射的该随机偏极光线之该第一偏极分量朝远离该光源之方向反射而离开该光偏极化元件。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中模组增亮装置进一步包含再一偏极化元件，该再一偏极化元件包含再一第二双折射面，该第一双折射面位于该两个第二双折射面之间，该再一第二双折射面一面为第二穿透面，与之相反一面为第二反射面，该第二反射面用以将该第一双折射面的第一穿透面反射的该随机偏极光线之该第一偏极分量朝远离该光源之方向反射而离开该光偏极化元件。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该偏极调变元件为一二分之一相位延迟膜。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该光偏极化元件之该第一与该第二双折射面系平行设置。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该光偏极化元件包含有一第一入光面与一第二入光面，且该随机偏极光线由该第一入光面进入该光偏极化元件时，会先行进至该第一双折射面，而该随机光线由该第二入光面进入该光偏极化元件时，会先行进至该第二双折射面。如申请专利范围第6项所述之光源系统，其中该第一入光面与该第二入光面系平行设置。如申请专利范围第7项所述之光源系统，其中第一入光面与该第二入光面系位于同一平面上。如申请专利范围第6项所述之光源系统，其中该光偏极化元件另包含有一第一出光面与一第二出光面，且该第一出光面与该第二出光面平行于该第一入光面。如申请专利范围第9项所述之光源系统，其中该光偏极化元件另包含有一第三出光面，不平行于该第一出光面。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该模组增亮装置包含有复数个该光偏极化元件与复数个该偏极调变元件，且该等光偏极化元件系互相平行并排。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该光源包含有一光源产生器以及一导光板。如申请专利范围第1项所述之光源系统，其中该光偏极化元件之材料系为双折射(double reflection)材料。如申请专利范围第12项所述之光源系统，其中该双折射材料包含有石英、方解石或冰洲石。一种光源系统，其包含有：至少一光源，用以产生随机偏极光线；以及一模组增亮装置，包含有：复数个光偏极化单元，紧邻平行并排，各该光偏极化单元包含有：相互平行设置之一双折射面，每一双折射面之一面为穿透面，与之相反的一面为反射面，该穿透面用以使该随机偏极光线之一第一偏极分量通过，并反射该随机偏极光线之一第二偏极分量；以及二出光面，不平行于该双折射面，其一出光面出射经由该穿透面通过的该第一偏极分量；以及复数个偏极调变元件，分别设置于二光偏极化单元之间，对应另一出光面表面，以将被反射的该第二偏极分量转换为该第一偏极分量；该双折射面之另一面为一反射面，用以将经由该偏极调变元件转换后的第一偏极分量的光线朝远离该光源之方向反射而离开该光偏极化单元；其中该光源所产生之随机偏极光线系直接入射至该等光偏极化单元中。如申请专利范围第15项所述之光源系统，其中各该光偏极化单元具有一入光面，而该入光面、该另一出光面与该双折射面形成一三角形结构。如申请专利范围第16项所述之光源系统，其中该三角形结构系为一等腰直角三角形。如申请专利范围第15项所述之光源系统，其中各该偏极调变元件系设于自各该光偏极化单元之该另一出光面至相邻之该光偏极化单元之该反射面之光路径上。如申请专利范围第15项所述之光源系统，其中该光源包含有一光源产生器以及一导光板。如申请专利范围第15项所述之光源系统，其中该光偏极化单元之材料系为双折射材料。如申请专利范围第20项所述之光源系统，其中该双折射材料包含有石英、方解石或冰洲石。如申请专利范围第15项所述之光源系统，其中该偏极调变元件为一二分之一相位延迟膜。一种模组增亮装置，其包含有：一光偏极化元件，其包含有至少二光偏极化单元，平行并排设置，而各该光偏极化单元包含有：一入光面，以使随机偏极光线直接经由该入光面进入该光偏极化单元；一双折射面，用以使该随机偏极光线之一第一偏极分量通过，并反射该随机偏极光线之一第二偏极分量，且该双折射面之一面为一反射面；以及一第一出光面与一第二出光面，不平行于该双折射面，且该第一出光面垂直于该入光面；一偏极调变元件设置于二光偏极化单元之间，用以将该第一偏极分量旋转偏极；其中至少二光偏极化单元的双折射面平行，该反射面系用以将经由该偏极调变元件转化的第二偏极分量光线朝该第一出光面反射以离开该光偏极化元件。如申请专利范围第23项所述之模组增亮装置，其中该偏极调变元件系为一二分之一相位延迟膜。如申请专利范围第24项所述之模组增亮装置，其中该第一偏极分量在通过一该光偏极化单元之该双折射面后，会先经过该偏极调变元件后转换为该第二偏极分量，再被相邻之该光偏极化单元之该反射面反射而离开该模组增亮装置。如申请专利范围第23项所述之模组增亮装置，其中该光偏极化元件之材料为双折射材料。如申请专利范围第26项所述之模组增亮装置，其中该双折射材料包含有石英、方解石或冰洲石。一种光源系统，其包含有：至少一光源，用以产生随机偏极光线；以及如申请专利范围第23项所述之一模组增亮装置，紧邻于该光源设置，且该光源系设于该模组增亮装置之至少一侧边。 |
