POLYMER PHOTO ACTIVE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME,申请号KR20040007116-传众专利搜索

发明名称	POLYMER PHOTO ACTIVE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME
摘要
申请公布号	KR101035845(B1)	申请公布日期	2011.05.19
申请号	KR20040007116	申请日期	2004.02.04
申请人		发明人
分类号	G03F7/022	主分类号	G03F7/022
代理机构		代理人
主权项
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