光刻胶下层聚合物和光刻胶下层组合物及用其图案化的方法

摘要

本发明公开了一种光刻胶下层聚合物、含有这种光刻胶下层聚合物的光刻胶下层组合物以及图案化器件的方法。该聚合物包括由以下化学式1表示的重复单元和/或由以下化学式2表示的重复单元。[化学式1]                                  [化学式2]在以上化学式1或2中，每一取代基与在详细描述中定义的取代基相同。

主权项

1.一种光刻胶下层聚合物，包括由以下化学式1表示的重复单元和/或由以下化学式2表示的重复单元：[化学式1][化学式2]其中，在以上化学式1和2中，R₁、R₃、R₄、R₅和R₇是相同或不同的，是氢、羟基、卤素、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯丙基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的羰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的硅氧烷基、或取代或未取代的硅烷基，R₂和R₆是相同或不同的，是氢、卤素、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯丙基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的羰基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的硅氧烷基、或取代或未取代的硅烷基，n₁至n₇是相同或不同的，是范围为0～2的整数，以及Ar₁至Ar₃是相同或不同的，且独立地是衍生于由以下化学式3～13中之一表示的含芳香环基团的化合物的官能团：[化学式3]                       [化学式4][化学式5]                       [化学式6][化学式7]                       [化学式8][化学式9][化学式10]                      [化学式11][化学式12]                      [化学式13]其中，在以上化学式3～13中，R₈～R₃₃和R₄₄～R₄₆是相同或不同的，是氢、羟基(-OH)、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯基、或卤素，R₃₄～R₄₃是相同或不同的，是氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯基、或卤素，n₈～n₄₆是相同或不同的，且范围为0～k(其中k与每一芳香环基团的氢原子数相同)，-X₁-至-X₆-是相同或不同的，且是由以下化学式14～20表示的官能团之一：[化学式14]*-CH₂-*[化学式15]                      [化学式16][化学式17]                      [化学式18][化学式19][化学式20]其中，在以上化学式中14～20中，R₄₇～R₉₁独立地是氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烯丙基、或卤素。