光刻方法和设备

摘要

本发明公开了一种光刻方法和装置。所述光刻方法包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间-温度特性的信号的步骤，参考所述光学元件的一部分的想要的时间-温度特性来实施控制，所述信号的控制是使得实际的时间-温度特性的改变领先于想要的时间-温度特性的相关改变。

主权项

一种光刻方法，包括：控制光刻设备的相调节器的步骤，所述相调节器构造并布置成调节穿过相调节器的光学元件的辐射束的电场的相；和控制提供给相调节器的导致所述光学元件的一部分的实际的时间‑温度特性的信号的步骤，所述信号的控制是使得实际的时间‑温度特性的改变领先于所述光学元件的所述部分的想要的时间‑温度特性的相关改变。