发明名称 |
化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备 |
摘要 |
本实用新型公开一种化学机械抛光机,包括:工作平台,抛光盘,修整器和抛光液输送装置,装卸平台,抛光头,机械手,和抛光头支架,所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板,所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽,所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸,所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板,其中水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端,所述悬臂端伸到所述抛光盘的上方。本实用新型的化学机械抛光机结构简单,加工方便,生产效率高。本实用新型还提出具有上述化学机械抛光机的化学机械抛光设备。 |
申请公布号 |
CN201833275U |
申请公布日期 |
2011.05.18 |
申请号 |
CN201020283455.6 |
申请日期 |
2010.08.05 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
路新春;许振杰;何永勇;王同庆;沈攀;赵德文;梅赫赓;张连清;裴召辉;雒建斌 |
分类号 |
B24B37/04(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
宋合成 |
主权项 |
一种化学机械抛光机,其特征在于,包括:工作平台;抛光盘,所述抛光盘安装在所述工作平台上表面上;修整器和抛光液输送装置,所述修整器和抛光液输送装置分别安装在工作平台的上表面上且位于抛光盘附近;抛光头支架,所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板,所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽,所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸,所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板,其中所述水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端,所述悬臂端伸到所述抛光盘的上方;装卸平台,所述装卸平台安装在所述工作平台上且位于所述水平基板下方并与所述抛光盘相对,其中抛光头支架的凹槽的纵向中心线通过抛光盘和装卸平台的中心;抛光头,所述抛光头可旋转且沿纵向可移动地设置在所述抛光头支架上并穿过所述凹槽向下伸出;和机械手,所述机械手设置在工作台附近用于将晶片放置到装卸平台上和从装卸平台上取走晶片。 |
地址 |
100084 北京市100084-82信箱 |