| 发明名称 | 通过将射束互补孔洞形状与射束形状相匹配以减少粒子和污染的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种离子注入系统(100)，包括：离子源(116)，构造为产生沿着射束路径(136)的离子束(104)；位于该离子源的下游的质量分析器(130)，其中，该质量分析器构造为对该离子束进行质量分析；和射束互补孔洞(330)，位于该质量分析器的下游且沿着该射束路径，该射束互补孔洞具有对应于该离子束的横截面射束包络的尺寸和形状。 | ||
| 申请公布号 | CN102067269A | 申请公布日期 | 2011.05.18 |
| 申请号 | CN200980123980.1 | 申请日期 | 2009.06.23 |
| 申请人 | 艾克塞利斯科技公司 | 发明人 | 约翰·格兰特;帕特里克·斯帕林特 |
| 分类号 | H01J37/09(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张成新 |
| 主权项 | 一种离子注入系统，包括：离子源，构造为产生沿射束路径的离子束；位于所述离子源的下游的质量分析器，其中，所述质量分析器构造为对所述离子束进行质量分析；和射束互补孔洞，位于所述质量分析器的下游且沿着所述射束路径，所述射束互补孔洞具有对应于所述离子束的横截面射束包络的形状和尺寸。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||