| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR TUNNEL-OPSTELLING, WAARIN HET PLAATSVINDEN VAN OPVOLGENDE SEMICONDUCTOR BEHANDELINGEN VAN OPVOLGENDE ERDOORHEEN VERPLAATSENDE SEMICONDUCTOR SUBSTRAAT-GEDEELTES EN WAARBIJ MEDE DAARIN MEERDERE STRIPVORMIGE MEDIUM TOEVOER-INRICHTINGEN IN TEN MINSTE HET BOVENTUNNELBLOK ERVAN ZIJN OPGENOMEN VOOR EEN ONONDERBROKEN TOEVOER VAN TENMINSTE MEDE DE COMBINATIE VAN DEELTJES VAN EEN DRAAGMEDIUM IN EEN GASVORMIGE - OF VERDAMPBARE VLOEIBARE VORM ERVAN. |
