发明名称 |
含氧杂环丁烷的化合物、光致抗蚀剂组合物、制备图案的方法、以及喷墨打印头 |
摘要 |
本发明披露了含氧杂环丁烷的化合物,包括该化合物的光致抗蚀剂组合物,使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法,以及喷墨打印头,该喷墨打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。 |
申请公布号 |
CN101190903B |
申请公布日期 |
2011.05.18 |
申请号 |
CN200710126352.1 |
申请日期 |
2007.06.29 |
申请人 |
三星电子株式会社;韩国科学技术院 |
发明人 |
金奎植;金镇伯;河龙雄;朴炳夏;朴志英;金秀玟 |
分类号 |
C07D305/06(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
C07D305/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
吴培善 |
主权项 |
1.由式2表示的含氧杂环丁烷的化合物:式2<img file="FSB00000330685500011.GIF" wi="1198" he="600" />其中:Q<sub>3</sub>、Q<sub>4</sub>、Q<sub>5</sub>、Q<sub>6</sub>、Q<sub>7</sub>和Q<sub>8</sub>各自独立地为氢原子和式4所表示的结构中的结构之一,式4<img file="FSB00000330685500012.GIF" wi="1038" he="588" />其中R<sub>1</sub>为氢原子或取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基,在Q<sub>3</sub>、Q<sub>4</sub>、Q<sub>5</sub>、Q<sub>6</sub>、Q<sub>7</sub>和Q<sub>8</sub>中的至少一种中的至少一个氢原子被氧杂环丁基取代,c和e各自独立地为1、2或3,d为1或2,f、g和h各自独立地为1、2、3或4,L<sub>2</sub>和L<sub>3</sub>各自独立地为式5所表示的结构中的至少一种结构:式5<img file="FSB00000330685500013.GIF" wi="941" he="204" />以及n为0或1~10的整数。 |
地址 |
韩国京畿道 |