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发明名称 High-rate barrier polishing composition
摘要
申请公布号 EP1520893(B1) 申请公布日期 2011.05.18
申请号 EP20040255560 申请日期 2004.09.14
申请人 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. 发明人 BIAN, JINRU;HU, KAI;LI,HUGH;LIU, ZHENDONG;QUANCI, JOHN;VANHANEHEM, MATTHEW R.
分类号 B24B37/00;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/3105;H01L21/321 主分类号 B24B37/00
代理机构 代理人
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