| 发明名称 | 用于去除蚀刻残余物以过氧化物活化的金属氧酸盐为基础的制剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供了强碱性含水制剂，其包括(a)水，(b)至少一种无金属离子的碱，该碱的量足以使最终制剂为碱性pH，(c)约0.01％至约5％重量(以％SiO2表示)的至少一种水溶性无金属离子的硅酸盐腐蚀抑制剂；(d)约0.01％至约10％重量的至少一种金属螯合剂，和(e)大于0至约2.0％重量的至少一种金属氧酸盐。该制剂与过氧化物组合使得形成过氧金属氧酸盐以制备形成微电子清洁组合物。用于从微电子设备，如微电子衬底中去除污染物和残余物。 | ||
| 申请公布号 | CN101611130B | 申请公布日期 | 2011.05.18 |
| 申请号 | CN200880005191.3 | 申请日期 | 2008.01.28 |
| 申请人 | 安万托特性材料股份有限公司 | 发明人 | 格伦·韦斯特伍德 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I;C11D7/14(2006.01)I;C11D11/00(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 曹立莉 |
| 主权项 | 与过氧化物组合用于清洁微电子设备的碱性含水制剂，该制剂包含：(a)水，(b)至少一种无金属离子的碱，该碱的量足以使最终制剂具有碱性pH，(c)以％SiO2表示，0.01％至5％重量的至少一种水溶性无金属离子的硅酸盐腐蚀抑制剂；(d)0.01％至10％重量的至少一种金属螯合剂，和(e)大于0至2.0％重量的至少一种来自元素周期表V和VI族的过渡金属的金属氧酸盐。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||