光刻装置和器件制造方法

摘要

一种光刻装置和器件制造方法，其使用了限定在容器(13)中的高折射率的液体，该液体至少部分地填充投射透镜的最终元件和基底之间的成像区域。对在溶解了大气气体的液体中形成的或者从暴露于液体的装置元件中放气形成的气泡进行检测并去除，使得气泡不会干涉曝光而导致在基底上的印刷缺陷。通过测量与液体中的超声衰减有关的频率来进行检测，通过对液体除气和加压、使液体与大气隔离、使用低表面张力的液体、提供通过成像区域的液体的连续流动、和相位移动超声驻波波节图案来进行气泡去除。

主权项

一种光刻投影装置，包括：‑用于保持基底的基底台；‑用于将带图案的辐射光束投射到所述基底的靶部上的投影系统；以及‑用于以液体至少部分地填充所述投射系统和所述基底之间的空间的液体供给系统，其中，所述液体供给系统包括气泡去除装置，所述气泡去除装置包括除气装置。