光刻装置和器件制造方法

摘要

本发明涉及一种光刻装置，其包括用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成至少在三个自由度上测量所述基底台的位置的位移测量系统。所述位移测量系统包括配置成在第一方向测量基底台的位置的第一x-传感器和配置成在第二方向测量基底台的位置的第一和第二y-传感器。所述位移测量系统还包括第二x-传感器，其中所述第一和第二x-传感器以及所述第一和第二y-传感器是编码器型传感器，它们配置成测量每个所述传感器相对至少一个栅板的位置。所述位移测量系统配置成根据所述基底台的位置，选择性地使用所述第一和第二x-传感器以及所述第一和第二y-传感器中的三个传感器，以在三个自由度上确定所述基底台的位置。

主权项

一种光刻装置，包括：用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成测量所述基底台的位置的位移测量系统，其中所述位移测量系统包括至少一个第一编码器型x‑传感器，其安装在基底台上并配置成在第一方向测量基底台相对多个大体上静止的相邻栅板的位置，所述位移测量系统配置成当横过所述多个相邻栅板之间的交叉线时连续测量所述基底台的位置；其中所述位移测量系统还包括第二编码器型x‑传感器，其安装在所述基底台上并配置成在所述第一方向测量基底台相对所述多个相邻栅板的位置，所述位移测量系统配置成根据所述基底台的位置，选择性地使用所述第一和第二编码器型x‑传感器之一，以在所述第一方向确定所述基底台的位置；其中所述位移测量系统配置成在至少三个共面的自由度x、y、Rz上测量所述基底台的位置，其中所述位移测量系统还包括：第一和第二编码器型y‑传感器，其安装在所述基底台上并配置成在第二方向测量基底台相对所述多个相邻栅板的位置，所述位移测量系统配置成根据所述基底台的位置，选择性地使用所述第一和第二编码器型x‑传感器和所述第一和第二编码器型y‑传感器中的三个传感器，以在所述三个自由度上确定所述基底台的位置。