发明名称 |
沉积薄膜的方法和具有用于喷洒清洁气体的单独喷射口的薄膜沉积系统 |
摘要 |
本发明揭示了一种薄膜沉积系统和方法。所述薄膜沉积系统包括一反应室、至少一个安装在所述反应室中用于在其上安装一基板的基座、一个以旋转方式定位在所述基座上的第一气体喷雾器和至少一个安装在所述第一气体喷雾器上用于喷洒清洁气体的第二气体喷雾器。所述薄膜沉积系统可增加源气体到所述基板表面的吸收率,有效缩短气体的供给循环以改进其生产率,且改进所述清洁气体的清洁效果以使得薄膜稳定地沉积到所述基板上。 |
申请公布号 |
CN1693540B |
申请公布日期 |
2011.05.18 |
申请号 |
CN200510067928.2 |
申请日期 |
2005.04.28 |
申请人 |
周星工程股份有限公司 |
发明人 |
朴海进;罗圣闵 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
王允方 |
主权项 |
一种薄膜沉积系统,其包含:一反应室;至少一个安装在所述反应室中用于在其上安装一基板的基座;一以旋转方式定位在所述基座的上方的第一气体喷雾器;和至少一个定位在所述基座的上方且与所述基座相对应的一位置的加速构件,其用于垂直加速由所述第一气体喷雾器供给的气体。 |
地址 |
韩国京畿道 |