| 发明名称 | 具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物。本发明中发现了具有抗光反射性能、光透过改良性能等的结构体所要求的表面形状与物性，特别是提供出赋予了耐表面损伤性的结构体，并提供了可形成具有所述特定结构与物性的结构体的组合物，进一步提供了可良好地形成抗光反射性能与光透过改良性能更优越且具有较大高宽比的结构体的组合物。即，本发明的结构体为表面具有平均高度100nm～1000nm的凸部或平均深度100nm～1000nm的凹部且该凸部或凹部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的结构体，该结构体的特征在于，其是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体，该结构体在180℃以上的储存模量为0.5GPa以上。 | ||
| 申请公布号 | CN101253227B | 申请公布日期 | 2011.05.18 |
| 申请号 | CN200680032001.8 | 申请日期 | 2006.09.28 |
| 申请人 | 日本印帝股份公司 | 发明人 | 松本司 |
| 分类号 | C08J5/00(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;C08F299/00(2006.01)I;C08L75/16(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;赵冬梅 |
| 主权项 | 一种结构体，其为表面具有平均高度为100nm～1000nm的凸部或平均深度为100nm～1000nm的凹部且该凸部或凹部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的结构体，该结构体的特征在于，其是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体，该结构体在180℃以上的储存模量为0.5GPa以上，所述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯，所述氨酯(甲基)丙烯酸酯含有4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||