| 发明名称 | 利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明的方法包括用包含液体载体、研磨剂及氧化剂的抛光组合物对包含至少一层碳化硅的基板进行化学机械抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN101512732B | 申请公布日期 | 2011.05.18 |
| 申请号 | CN200780032800.X | 申请日期 | 2007.09.04 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 马克施·德赛;凯文·莫根伯格;菲利普·卡特 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光基板的方法，该方法包括：(i)使包含至少一层单晶碳化硅的基板与化学机械抛光组合物接触，该化学机械抛光组合物包含：(a)液体载体，其中具有任何溶解或悬浮于其中的组分的该液体载体的pH值为5或更小，(b)悬浮于该液体载体中的研磨剂，其中该研磨剂为平均粒度为40纳米至130纳米的基本上为球形的二氧化硅颗粒，及(c)选自过氧化氢、过硫酸氢钾制剂、硝酸铈铵、高碘酸盐、碘酸盐、过硫酸盐、及其混合物的氧化剂，及(ii)相对于该基板移动该抛光组合物，及(iii)磨除该基板的至少一部分所述碳化硅以抛光该基板。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||