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发明名称 LITHOGRAPHIC APPARATUS, EUV RADIATION GENERATION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD.
摘要
申请公布号 NL2006550(A) 申请公布日期 2011.05.17
申请号 NL20112006550 申请日期 2011.04.06
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 LOOPSTRA, ERIK;SWINKELS, GERARDUS;BUURMAN, ERIK;STAMM, UWE
分类号 G03F7/20;H05G2/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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