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发明名称 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON ÄTZRESISTENTEN POLYMERSTRUKTUREN UNTER VERWENDUNG VON ELEKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE
摘要
申请公布号 AT507505(T) 申请公布日期 2011.05.15
申请号 AT20030700777T 申请日期 2003.01.31
申请人 SOCPRA SCIENCES ET GENIE S.E.C. 发明人 LAVALLEE, ERIC;BEAUVAIS, JACQUES;DROUIN, DOMINIQUE;CLOUTIER, MELANIE
分类号 G03F7/004;G03F7/027;G03F1/08;G03F1/14;G03F1/16;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/40;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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