发明名称 DEPOT SELECTIF DE NANOPARTICULES
摘要 <p>L'invention concerne un procédé de dépôt de nanoparticules en un matériau isolant, semi-conducteur ou conducteur sur des zones déterminées, en un matériau conducteur ou semi-conducteur, d'un substrat ainsi qu'un procédé de fabrication d'électrodes. Le procédé de l'invention comprend les étapes de a) création autour des zones Z, de zones I en un matériau isolant, lorsque ces zones I ne sont pas déjà présentes, b) dépôt, par électrogreffage, sur le matériau conducteur ou semi-conducteur constituant les zones Z d'un polymère P préparé à partir d'un sel de diazonium ou de monomères vinyliques ou d'un mélange de ceux-ci, c) enrobage des nanoparticules avec un matériau d'enrobage comprenant une molécule bifonctionnelle apte à créer une liaison avec les nanoparticules et une liaison avec le polymère P, d) mise en suspension des nanoparticules enrobées obtenues à l'étape c) dans un solvant, de préférence une solution du matériau d'enrobage utilisée à l'étape c), e) immersion du substrat S obtenu à l'étape b) dans la suspension obtenue à l'étape d), et f) élimination du polymère P. L'invention trouve application pour la fabrication d'électrodes, en particulier.</p>
申请公布号 FR2952384(A1) 申请公布日期 2011.05.13
申请号 FR20090005392 申请日期 2009.11.10
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 发明人 DIJON JEAN;JOYEUX XAVIER;PINSON JEAN
分类号 C23C20/00;B82B3/00 主分类号 C23C20/00
代理机构 代理人
主权项
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