Imprinttemplate, Nanoimprintvorrichtung und Nanostrukturierungsverfahren

摘要

Die Erfindung betrifft Imprinttemplate für den Einsatz in Nanoimprintlithographieverfahren, eine Nanoimprintvorrichtung geeignet für UV-Nanoimprintlithographieverfahren und ein Nanostrukturierungsverfahren zur direkten Strukturierung eines UV-empfindlichen Prägematerials auf einem Substrat. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, kostengünstige und einfache Imprinttemplates, sowie eine entsprechende Nanoimprintvorrichtung und ein Nanostrukturierungsverfahren zu entwickeln, das sowohl für die Ultraviolett-Nanoimprintlithographie als auch für die thermische Nanoimprintlithographie nutzbar ist. Dies wird erreicht durch ein Imprinttemplate, das aus einem nichttransparenten, strukturierten Chip und einem transparenten Grundkörper besteht, einer Nanoimprintvorrichtung und einem Nanostrukturierungsverfahren, in denen ein zumindest teilweise nichttransparentes Imprinttemplate sowie eine über der Imprinttemplate-Halterung befindliche UV-Quelle zur Strukturierung mittels indirekter Belichtung durch Reflektion des von der UV-Strahlungsquelle ausgesendeten Lichts in Richtung der fotoaktiven Schicht eingesetzt werden.