发明名称 基板洗净方法、基板洗净装置、及程式记录媒体
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.05.11
申请号 TW096117922 申请日期 2007.05.18
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 渡边司;新藤尚树;广城幸吉;上川裕二
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种基板洗净方法,其特征为:具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,改变洗净槽内供给洗净液的垂直方向位置。如申请专利范围第1项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置对前述洗净槽内吐出洗净液的复数吐出构件,对前述洗净槽内供给洗净液,且在该工程中,更换前述复数吐出构件中之供给洗净液所用的吐出构件。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,改变从至少一个吐出构件所供给的洗净液之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,改变从至少一个吐出构件所供给的洗净液之溶解存在气体浓度。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用前述复数吐出构件中的至少一个吐出构件,且气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,改变气泡与前述洗净液同时供给的前述至少一个吐出构件中,从至少一个吐出构件被供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用前述复数吐出构件中的至少一个吐出构件,且气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,改变气泡与前述洗净液同时供给的前述至少一个吐出构件中,从至少一个吐出构件被供给的气泡之每一单位时间的供给。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,从前述复数吐出构件中之一个吐出构件所供给的洗净液之每一单位时间的供给量,不同于从与该一个吐出构件相异的垂直方向位置将洗净液吐出到前述洗净槽内之从前述复数吐出构件中之至少另一个吐出构件所供给的洗净液之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,从前述复数吐出构件中之一个吐出构件所供给的洗净液之溶解存在气体浓度,不同于从与该一个吐出构件相异的垂直方向位置将洗净液吐出到前述洗净槽内之从前述复数吐出构件中之至少另一个吐出构件所供给的洗净液之溶解存在气体浓度。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,使用前述复数吐出构件中之至少两个吐出构件,让气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,且从前述至少两个吐出构件中之一个吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量,不同于从与该一个吐出构件相异的垂直方向位置,吐出混入气泡的洗净液的前述至少两个吐出构件中之从至少另一个吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第2项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,使用前述复数吐出构件中之至少两个吐出构件,让气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,且从前述至少两个吐出构件中之一个吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目,不同于从与该一个吐出构件相异的垂直方向位置,吐出混入气泡的洗净液的前述至少两个吐出构件中之从至少另一个吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目。如申请专利范围第1项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,吐出洗净液的吐出构件会朝垂直方向移动。如申请专利范围第11项所记载的基板洗净方法,其中,改变从前述吐出构件所供给的洗净液之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第11项所记载的基板洗净方法,其中,改变从前述吐出构件所供给的洗净液之溶解存在气体浓度。如申请专利范围第11项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,使用前述吐出构件,让气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,且改变从前述吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第11项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,使用前述吐出构件,让气泡与洗净液同时供给到前述洗净槽内,且改变从前述吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给。一种基板洗净方法,其特征为:具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置吐出洗净液的复数吐出构件,对前述洗净槽内供给洗净液。如申请专利范围第16项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,更换前述复数吐出构件中之供给洗净液所用的吐出构件。一种基板洗净方法,其特征为:具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,改变洗净槽内供给气泡的垂直方向位置。如申请专利范围第18项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置吐出气泡的复数气泡吐出构件,对前述洗净槽内供给气泡,且在该工程中,更换前述复数气泡吐出构件中之供给气泡所用的气泡吐出构件。如申请专利范围第19项所记载的基板洗净方法,其中,改变从至少一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第19项所记载的基板洗净方法,其中,改变从至少一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目。如申请专利范围第19项所记载的基板洗净方法,其中,从前述复数气泡吐出构件中之一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量,不同于从与该一个气泡吐出构件相异的垂直方向位置吐出气泡的前述复数气泡吐出构件中之从至少另一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第19项所记载的基板洗净方法,其中,从前述复数气泡吐出构件中之一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目,不同于从与该一个气泡吐出构件相异的垂直方向位置吐出气泡的前述复数气泡吐出构件中之从至少另一个气泡吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目。如申请专利范围第18项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,吐出气泡的气泡吐出构件会朝垂直方向移动。如申请专利范围第24项所记载的基板洗净方法,其中,改变从前述吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给量。如申请专利范围第24项所记载的基板洗净方法,其中,改变从前述吐出构件所供给的气泡之每一单位时间的供给数目。一种基板洗净方法,其特征为:具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置吐出气泡的复数气泡吐出构件,对前述洗净槽内供给气泡。如申请专利范围第27项所记载的基板洗净方法,其中,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液的工程中,更换前述复数气泡吐出构件中之供给气泡所用的吐出构件。一种基板洗净装置,其特征为具备:贮留洗净液的洗净槽;和产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的超音波产生装置;和被配置在互不相同的垂直方向位置,从互不相同的垂直方向位置将洗净液吐出到前述洗净槽内的复数吐出构件。如申请专利范围第29项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述复数吐出构件连结,且将洗净液送入到前述吐出构件的洗净液供给装置;和设置在前述洗净液供给装置与前述复数吐出构件之间的流路切换机构,该流路切换机构是用来开闭前述洗净液供给装置与各吐出构件之间的连接。如申请专利范围第30项所记载的基板洗净装置,其中,更具备连接在前述流路切换机构,用来控制前述流路切换机构之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来变更前述洗净液供给装置与各吐出构件之间的连接状态,且变更将洗净液吐出到前述复数吐出构件中之前述洗净槽内的吐出构件的方式,来控制前述流路切换机构。如申请专利范围第30项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:设置在至少一个吐出构件与前述流路切换机构之间,且增减从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液之每一单位时间的供给量的流量调整机构;和连接到前述流量调整机构,且用来控制前述流量调整机构之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液之每一单位时间的供给量的方式,来控制前述流量调整机构。如申请专利范围第30项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:设置在至少一个吐出构件与前述流路切换机构之间,且增减从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液之溶解存在气体浓度的溶解存在气体浓度调整装置;和连接到前述溶解存在气体浓度调整装置,且用来控制前述溶解存在气体浓度调整装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液之溶解存在气体浓度的方式,来控制前述溶解存在气体浓度调整装置。如申请专利范围第30项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:设置在至少一个吐出构件与前述流路切换机构之间,且让气泡混入到从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液中的气泡混入装置;和连接到前述气泡混入装置,且用来控制前述气泡混入装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变从该吐出构件与洗净液同时供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给量的方式,来控制前述气泡混入装置。如申请专利范围第30项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:设置在至少一个吐出构件与前述流路切换机构之间,且让气泡混入到从该吐出构件供给到前述洗净槽内的洗净液中的气泡混入装置;和连接到前述气泡混入装置,且用来控制前述气泡混入装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变从该吐出构件与洗净液同时供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给数目的方式,来控制前述气泡混入装置。如申请专利范围第29项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述吐出构件连结,且将洗净液送入到前述吐出构件的洗净液供给装置;和设置在前述洗净槽与前述洗净液供给装置之间,且增减从前述洗净供给装置供给到前述洗净槽内的洗净液之溶解存在气体浓度的溶解存在气体浓度调整装置;和连接到前述溶解存在气体浓度调整装置,且用来控制前述溶解存在气体浓度调整装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变供给到前述洗净槽内的洗净液之溶解存在气体浓度的方式,来控制前述溶解存在气体浓度调整装置。如申请专利范围第29项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述吐出构件连结,且将洗净液送入到前述吐出构件的洗净液供给装置;和设置在前述洗净槽与前述洗净液供给装置之间,且让气泡混入到从前述洗净液供给装置供给到前述洗净槽内的洗净液中的气泡混入装置;和连接到前述气泡混入装置,且用来控制前述气泡混入装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变与洗净液同时供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给量的方式,来控制前述气泡混入装置。如申请专利范围第29项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述吐出构件连结,且将洗净液送入到前述吐出构件的洗净液供给装置;和设置在前述洗净槽与前述洗净液供给装置之间,且让气泡混入到从前述洗净液供给装置供给到前述洗净槽内的洗净液中的气泡混入装置;和连接到前述气泡混入装置,且用来控制前述气泡混入装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变与洗净液同时供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给数目的方式,来控制前述气泡混入装置。一种基板洗净装置,其特征为具备:贮留洗净液的洗净槽;和产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的超音波产生装置;和可朝垂直方向移动,且将洗净液吐出到前述洗净槽内的吐出构件。如申请专利范围第39项所记载的基板洗净装置,其中,前述吐出构件,在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,会朝垂直方向移动。一种基板洗净装置,其特征为具备:贮留洗净液的洗净槽;和产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的超音波产生装置;和被配置在互不相同的垂直方向位置,从互不相同的垂直方向位置将气泡吐出到前述洗净槽内的复数气泡吐出构件。如申请专利范围第41项所记载的基板洗净装置,其中,在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,变更气泡吐出到前述复数气泡吐出构件中之前述洗净槽内的洗净液中的吐出构件。一种基板洗净装置,其特征为具备:贮留洗净液的洗净槽;和产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的超音波产生装置;和可朝垂直方向移动,且将气泡吐出到前述洗净槽内的气泡吐出构件。如申请专利范围第43项所记载的基板洗净装置,其中,前述气泡吐出构件,在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,会朝垂直方向移动。如申请专利范围第43项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述气泡吐出构件连结,且将气体送入到前述气泡吐出构件的气体供给装置;和连接到前述气体供给装置,且用来控制前述气体供给装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给量的方式,来控制前述气体供给装置如申请专利范围第43项所记载的基板洗净装置,其中,更具备:与前述气泡吐出构件连结,且将气体送入到前述气泡吐出构件的气体供给装置;和连接到前述气体供给装置,且用来控制前述气体供给装置之动作的控制装置,前述控制装置,是以在前述超音波产生装置产生超音波于前述洗净槽内的洗净液的期间,来改变供给到前述洗净槽内的气泡之每一单位时间的供给数目的方式,来控制前述气体供给装置。一种记录媒体,属于记录着藉由控制基板处理装置的控制装置所实行的程式之记录媒体,其特征为:藉由前述控制装置来实行前述程式,藉此使基板处理装置来实施被处理基板之处理方法,该处理方法具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,改变洗净槽内供给洗净液的垂直方向位置。一种记录媒体,属于记录着藉由控制基板处理装置的控制装置所实行的程式之记录媒体,其特征为:藉由前述控制装置来实行前述程式,藉此使基板处理装置来实施被处理基板之处理方法,该处理方法具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给洗净液、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置吐出洗净液的复数吐出构件,对前述洗净槽内供给洗净液。一种记录媒体,属于记录着藉由控制基板处理装置的控制装置所实行的程式之记录媒体,其特征为:藉由前述控制装置来实行前述程式,藉此使基板处理装置来实施被处理基板之处理方法,该处理方法具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,改变洗净槽内供给气泡的垂直方向位置。一种记录媒体,属于记录着藉由控制基板处理装置的控制装置所实行的程式之记录媒体,其特征为:藉由前述控制装置来实行前述程式,藉此使基板处理装置来实施被处理基板之处理方法,该处理方法具备:将被处理基板浸渍于贮留在洗净槽内的洗净液内之工程;和一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于前述洗净槽内的洗净液之工程,在一边对前述洗净槽内供给气泡、一边产生超音波于洗净槽内的洗净液之工程中,使用从互不相同的垂直方向位置吐出气泡的复数气泡吐出构件,前述洗净槽内供给气泡。
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