发明名称 正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
摘要 本发明涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高,而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂,以及[B]1,2-醌二叠氮化合物。[A]成分优选为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体,以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外,还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。
申请公布号 CN102053497A 申请公布日期 2011.05.11
申请号 CN201010531407.9 申请日期 2010.10.26
申请人 JSR株式会社 发明人 村田惠;荒井雅史;花村政晓
分类号 G03F7/039(2006.01)I;G03F7/008(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/039(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人 刘激扬
主权项 一种正型放射线敏感性树脂组合物,其包含:[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂,以及[B]1,2‑醌二叠氮化合物。
地址 日本国东京都