发明名称 |
正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法 |
摘要 |
本发明涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高,而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂,以及[B]1,2-醌二叠氮化合物。[A]成分优选为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体,以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外,还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。 |
申请公布号 |
CN102053497A |
申请公布日期 |
2011.05.11 |
申请号 |
CN201010531407.9 |
申请日期 |
2010.10.26 |
申请人 |
JSR株式会社 |
发明人 |
村田惠;荒井雅史;花村政晓 |
分类号 |
G03F7/039(2006.01)I;G03F7/008(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
一种正型放射线敏感性树脂组合物,其包含:[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂,以及[B]1,2‑醌二叠氮化合物。 |
地址 |
日本国东京都 |