| 发明名称 | 制造有机发光设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种制造有机发光设备的方法，所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜，所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极，所述方法包括：通过在10Pa或更高～10000Pa或更低的范围内的压力下，在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时，用UV光照射至少具有下电极和所述下电极上形成的器件分离膜的基底，从而清洁所述基底；在清洁后的下电极上形成有机化合物层；以及在所述有机化合物层上形成上电极。 | ||
| 申请公布号 | CN101296537B | 申请公布日期 | 2011.05.11 |
| 申请号 | CN200810093544.1 | 申请日期 | 2008.04.25 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 德永雄三;大塚学;真下精二;远藤太郎;西田直哉 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I;H05B33/22(2006.01)I;H05B33/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 魏小薇 |
| 主权项 | 一种制造有机发光设备的方法，所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜，所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极，所述方法包括：通过在10Pa～10000Pa的范围的压力下，在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时，用UV光照射至少形成有下电极和器件分离膜的基底，从而清洁所述基底；在清洁后的下电极上形成有机化合物层；以及在所述有机化合物层上形成上电极。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||