移动体装置、曝光装置和曝光方法以及元件制造方法

摘要

本发明提供一种移动体装置、曝光装置和曝光方法以及元件制造方法。本发明是在晶圆载台(WST)的侧面上设置移动栅格(30X)，并从光源(22)对该移动栅格照射光束，且利用与光源之间的位置关系固定的固定尺规(24A、24B)及索引尺规(26)，而使移动栅格所产生的绕射光受到干涉，并利用检测器(28)检测出该被干涉了的光。在这种情况下，由于移动栅格被设置在晶圆载台的侧面上，所以能够抑制晶圆载台全体的大型化。而且，由于干涉是在通过非常接近的光路的多个绕射光(例如±1次绕射光)间产生，所以与知的干涉仪相比，因周边环境的晃动所产生的影响少，藉此可进行高精度的移动体的位置资讯的计测。

主权项

一种移动体装置，其特征在于其包括：移动体，其沿着移动面内的至少一个轴方向进行移动；计测装置，其具有光源、光学系统及检测器，其中，光源是对与前述移动体的前述移动面相交差的规定面上的移动栅格照射光，光学系统是使前述移动栅格所产生的多个绕射光进行干涉，且光学系统与前述光源之间的位置关系固定，检测器是对前述干涉的光进行检测，前述移动面具有彼此直交的X轴方向与Y轴方向，且Z轴方向垂直于前述移动面。