光刻设备和器件制造方法

摘要

公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备包括照射系统，配置用于调节辐射束；支架，配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，配置用于保持衬底；以及投影系统，配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。一种涂洒器，例如加湿器，设置用于将分子，例如水分子，施加到图案形成装置的夹持区域上。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，其被构造用于调节辐射束；支架，其被构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，其被构造用于保持衬底；投影系统，其被构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及涂洒器，用于将分子仅施加到图案形成装置的夹持区域上，其中，所述涂洒器包括用于湿化图案形成装置的夹持区域的加湿器，其中，所述加湿器被包含在支架中，其中，所述加湿器包括在支架的夹持区域中的出口，以将包括水蒸气的气体引导到图案形成装置的夹持区域，其中，所述加湿器还包括排放进口，用于将由出口提供的气体的至少一部分引导出来。