自调整式曝光路径规划方法

摘要

本发明提出一种自调整式曝光路径规划方法，包括下列步骤：得到硅片表面上的第一路径计算信息；以及判断路径规划文件中的其他路径计算信息中是否存在和第一路径计算信息相同的第二路径计算信息，当其他路径计算信息中存在和第一路径计算信息相同的第二路径计算信息时，则直接读取第二路径计算信息对应的已规划路径，当其他路径计算信息中不存在和第一路径计算信息相同的第二路径计算信息时，则利用蚁群算法计算出第一路径计算信息的优化路径。本发明自调整式曝光路径规划方法使得寻优速度更快，有利于光刻机的及时曝光工作和高实时性要求，而且可以不断更新路径规划文件，使得曝光路径不断得到优化。

主权项

一种自调整式曝光路径规划方法，其特征在于包括下列步骤：得到硅片表面上的第一路径计算信息；以及判断路径规划文件中已存在的其他路径计算信息中是否存在和上述第一路径计算信息相同的第二路径计算信息，当上述其他路径计算信息中存在和上述第一路径计算信息相同的上述第二路径计算信息时，则直接读取上述第二路径计算信息对应的已规划路径，当上述其他路径计算信息中不存在和上述第一路径计算信息相同的上述第二路径计算信息时，则利用蚁群算法计算出上述第一路径计算信息的优化路径。