减少图案特征的临界尺寸

摘要

在一个层中设置一种特征。在所述层上形成光刻胶层。在所述光刻胶层上形成图案，以形成具有光刻胶侧壁的光刻胶特征，其中，所述光刻胶特征具有第一临界尺寸。在所述光刻胶特征的侧壁上淀积保形层，以减小所述光刻胶特征的临界尺寸。将各特征蚀刻到所述层中，其中所述层的特征具有比第一临界尺寸小的第二临界尺寸。

主权项

一种用于在层中形成特征的方法，包括：在所述层上形成光刻胶层；在所述光刻胶层上形成图案，以形成具有光刻胶侧壁的光刻胶特征，其中所述光刻胶特征具有第一临界尺寸；在光刻胶特征的侧壁上淀积保形层，来减小光刻胶特征的临界尺寸，其中包含：第一淀积，该第一淀积使用形成第一淀积等离子体的第一气体化学成分；第二淀积，该第二淀积使用形成第二淀积等离子体的第二气体化学成分，其中第一气体化学成分不同于第二气体化学成分；其中，淀积所述保形层的操作在底部与保形层垂直相交处以外的部分上不提供淀积的保形层，将特征蚀刻到所述层中，其中所述层的特征具有小于第一临界尺寸的第二临界尺寸。