发明名称 |
互补金属氧化物半导体结构的制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种互补金属氧化物半导体结构的制作方法,其中在对具有张应力的氮化硅层进行刻蚀时,分三次进行,第一次刻蚀和第三次刻蚀主要进行纵向刻蚀,第二次刻蚀主要进行横向刻蚀。应用本发明所述的方法,不但能够降低出现过刻蚀问题的可能性,而且能够提高刻蚀后的硬掩膜氧化层的均匀性。 |
申请公布号 |
CN102054778A |
申请公布日期 |
2011.05.11 |
申请号 |
CN200910198457.7 |
申请日期 |
2009.11.03 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
黄敬勇;韩秋华;王新鹏;孙武 |
分类号 |
H01L21/8238(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/8238(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
谢安昆;宋志强 |
主权项 |
一种互补金属氧化物半导体结构的制作方法,该方法包括:在硅片的半导体衬底上形成具有N型金属氧化物半导体NMOS结构的第一区域和具有P型金属氧化物半导体PMOS结构的第二区域;在硅片表面依次沉积具有张应力的氮化硅层和硬掩膜氧化层,并在第一区域上的硬掩膜氧化层表面形成第一光刻胶层;在第一光刻胶层的保护下,刻蚀掉第二区域上的硬掩膜氧化层,并在刻蚀完成后去除第一光刻胶层;在第一区域上的硬掩膜氧化层的保护下,分三次刻蚀掉第二区域上的具有张应力的氮化硅层;其中,通过将每次刻蚀过程中的偏置电压设置为预定取值,控制第一次刻蚀和第三次刻蚀主要进行纵向刻蚀,第二次刻蚀主要进行横向刻蚀;在硅片表面沉积具有压应力的氮化硅层,并在第二区域上的具有压应力的氮化硅层表面形成第二光刻胶层;在第二光刻胶层的保护下,刻蚀掉第一区域上的具有压应力的氮化硅层,并在刻蚀完成后去除第二光刻胶层。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |