发明名称 |
使用多存储器层的多层单元存储器结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供具有多存储器层结构的多层单元(MLC)存储器结构,其每һ存储器层结构包含һ氧化钨区域,其定义多个逻辑态的不同读取电流量。每һ存储器层结构藉由使用氧化钨区域提供多层单元功能可提供二位元信息,其构成四逻辑态,其中四逻辑态等于四个不同读取电流。yi,gif具有二存储器层结构的存储器结构可提供四位元储存位址及十六逻辑态。在һ实施例中,第һ及第二存储器层结构各自包含yi,gif氧化钨区域延伸入钨栓元件的主要表面,其中该钨栓的外表面由һ阻障元件包围。 |
申请公布号 |
CN101226771B |
申请公布日期 |
2011.05.11 |
申请号 |
CN200710128664.6 |
申请日期 |
2007.07.09 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
何家骅;赖二琨 |
分类号 |
G11C11/56(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
G11C11/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
一种具有多存储器层的存储器,其包含:一第一存储器层结构,其具有一具有主要表面的一第一电极及氧化钨区域,该氧化钨区域由该第一电极的该主要表面延伸并在该第一电极及该第一存储器层结构的一第二电极间电性连接,该第一电极具有与该氧化钨区域尺寸相等的一尺寸;及一第二存储器层结构,耦合至该第一存储器层结构,该第二存储器层结构具有一具有主要表面的一第一电极及氧化钨区域,该第二存储器层结构的该氧化钨区域由该第二存储器层结构的该第一电极的该主要表面延伸至该第二存储器层结构并在该第二存储器层结构的该第一电极与该第二存储器层结构的一第二电极电性连接,该第二存储器层结构的该第一电极具有与该第二存储器层结构的该氧化钨区域尺寸相等的一尺寸。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |