修补带缺陷光罩图形的方法

摘要

一种修补带缺陷光罩图形的方法，包括下列步骤将布局图形转移至光罩上形成光罩图形；获取光罩上带缺陷光罩图形及其缺陷部分任意一点位置坐标；根据任意一点的位置坐标将带缺陷光罩图形对应的布局图形导出；对导出的带缺陷光罩图形对应的布局图形进行光学近似修正；将修正后的带缺陷光罩图形对应的布局图形转移至光罩上修补带缺陷光罩图形。经过上述步骤，修补方便、精确。

主权项

一种修补光罩上带缺陷光罩图形的方法，其特征在于，包括下列步骤：提供光罩与布局图形，所述光罩下方形成有抗反射层、铬膜层、透明基板；将布局图形转移至光罩上形成光罩图形；获取光罩上带缺陷光罩图形及其缺陷部分任意一点位置坐标，所述带缺陷光罩图形是光罩上沾染少许环境中的微粒，曝光能量不均或过度以及光刻胶材料问题而产生；根据任意一点的位置坐标将带缺陷光罩图形对应的布局图形导出；对导出的带缺陷光罩图形对应的布局图形进行光学近似修正；用聚焦离子束将修正后的带缺陷光罩图形对应的布局图形转移至光罩上修补带缺陷光罩图形，将带缺陷光罩图形的缺陷部分抗反射层和铬膜层去除。