发明名称 一种硅片边缘膜厚测量方法
摘要 一种硅片边缘膜厚测量方法属于化学机械抛光膜厚测量技术领域。通过本发明中的数学模型可以对边缘膜厚测量曲线进行修正,使其尽可能与真实边缘膜厚曲线一致,使用本发明后测量得到的边缘膜厚值可作为真实边缘膜厚值。本发明解决了电涡流测量硅片膜厚存在的所测边缘膜厚失真的问题,优点在于不用改变硬件设施,只需对数学模型进行修改;使用时,仅需进行简单的离线标定,不会影响化学机械抛光的产量。
申请公布号 CN102049732A 申请公布日期 2011.05.11
申请号 CN201010266786.3 申请日期 2010.08.30
申请人 清华大学 发明人 路新春;沈攀;何永勇
分类号 B24B49/04(2006.01)I;B24B49/10(2006.01)I 主分类号 B24B49/04(2006.01)I
代理机构 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人 朱琨
主权项 一种硅片边缘膜厚测量方法,其特征在于,所述方法是在计算机中依次按以下步骤进行的:步骤(1):计算机初始化;设定:电涡流传感器的直径用D表示,被测点x,为被测硅片水平方向直径上的点,取值范围为x0‑2D~x0之间,x0为被测硅片水平方向直径上的膜厚边缘点,Tm(x)为被测点x的测量膜厚值,Tr(x)为被测点x的实际膜厚值,d为膜厚测量修正系数,与所述电涡流传感器尺寸、形状、工作距离等参数相关,待标定;步骤(2):确定所述膜厚测量修正系数d;步骤(2.1):使用长度测量仪器测出被测点x的值,以及x0的值;步骤(2.2):采用四点探针法测量出所述被测点x处硅片的实际厚度值Tr(x);步骤(2.3):采用所述的电涡流传感器测出所述被测点x处的膜厚测量值Tm(x);步骤(2.4):把步骤(2.1)到步骤(2.3)得到的x值、Tr(x)值和Tm(x)值输入所述计算机,按下式求出所述膜厚修正系数,用d表示: <mrow> <msub> <mi>T</mi> <mi>r</mi> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mi>x</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>=</mo> <mfrac> <mrow> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>-</mo> <mi>x</mi> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> <mo>+</mo> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <mi>x</mi> <mo>-</mo> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> </mrow> <mrow> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>-</mo> <mi>x</mi> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> <mo>-</mo> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <mi>x</mi> <mo>-</mo> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> </mrow> </mfrac> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>T</mi> <mi>m</mi> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mi>x</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>,</mo> </mrow>步骤(3):按照设定的采样质点,所述电涡流传感器沿着点x0‑2D~x0的方向逐点测量各采样点x上的膜厚测量值Tm(x);步骤(4):把步骤(3)得到的各采样点x上的膜厚测量值逐个代入下式,求出对应的实际厚度值Tr(x): <mrow> <msub> <mi>T</mi> <mi>r</mi> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mi>x</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>=</mo> <mfrac> <mrow> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>-</mo> <mi>x</mi> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> <mo>+</mo> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <mi>x</mi> <mo>-</mo> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> </mrow> <mrow> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> <mo>-</mo> <mi>x</mi> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> <mo>-</mo> <msup> <mi>e</mi> <mfrac> <mrow> <mi>x</mi> <mo>-</mo> <msub> <mi>x</mi> <mn>0</mn> </msub> </mrow> <mi>d</mi> </mfrac> </msup> </mrow> </mfrac> <mo>&CenterDot;</mo> <msub> <mi>T</mi> <mi>m</mi> </msub> <mrow> <mo>(</mo> <mi>x</mi> <mo>)</mo> </mrow> <mo>,</mo> </mrow>其中,膜厚修正系数d采用步骤(2.4)得到的值。
地址 100084 北京市100084-82信箱