用于等离子处理腔的喷头组件

摘要

一种用于处理基板的等离子腔的喷头，包含喷头主体，喷头主体包含在它们之间限定空腔的顶板和底板；形成于顶板上的进气口；开孔板，其被放置于顶板和底板之间并将空腔分隔成为上部气体分隔间和下部气体分隔间；以及，其中，底板包含位于其底表面的多个长扩散槽和位于其顶表面的多个扩散孔，每一个扩散孔制造从下部气体分隔间至一个以上扩散槽的流体连通。

主权项

一种用于处理基板的等离子处理装置的喷头组件，包含：具有进气口的顶板；开孔板，其被放置于所述顶板下面，并和所述顶板隔开一定距离，以和所述顶板一起限定上部气体分隔间；气体分配板，其被放置于所述开孔板下面，并和所述开孔板隔开一段距离，以限定下部气体分隔间，所述气体分配板面对待处理的所述基板；以及其中，所述气体分配板包含下表面上的多个长气体分配槽和上表面上的多个气体分配孔，每个所述气体分配孔的直径大于所述开孔板中开孔的直径，并且每一个所述气体分配孔形成从所述下部气体分隔间至一个以上所述气体分配槽之间的流体流通。