光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法

摘要

一种光刻设备包括系统，用于使用衬底台中的侧镜来补偿在衬底台位置测量上的衬底台的热变形效应。提出了使用各种衬底台扫描轨道和局部位置测量及衬底台中侧镜的转动来校准光刻设备的方法。具有对准标记的双台光刻设备定义了仅在曝光站处使用的侧镜的几何形状，以在衬底台在测量站处时对侧镜的几何形状进行测量。

主权项

一种光刻设备，包括：投影系统，配置用于将来自构图装置的图案投影到衬底上；衬底台，构造用于支撑衬底，并且包括在所述衬底台侧面上形成的至少一个反射元件；衬底台位移装置，配置用于将衬底台相对于投影系统移动；衬底台温度监视器，配置用于确定衬底台的至少一部分的温度；干扰检测器，配置用于使用由衬底台温度监视器确定的温度来估计所述至少一个反射元件的位置、方位或形状中至少一个的热感应漂移；衬底台位置检测器，配置用于通过反射来自所述至少一个反射元件中的辐射并考虑由干扰检测器所估计的所述至少一个反射元件的热感应漂移来确定所述衬底台的位置；以及控制系统，设置用于向衬底台位移装置提供控制信号，以使所述衬底台沿预定路径移动，所述控制信号基于由衬底台位置检测器所确定的衬底台的位置来确定。