| 发明名称 | 具有微结构的器件和形成这种器件的方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种包括衬底(10)的器件，所述衬底(10)在由盖层(18)封盖的腔体(20)中承载微结构(15)，所述盖层包括结构式为SiNxHy的材料，其中x＞1.33并且y＞0。还公开了一种形成这种器件的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102050417A | 申请公布日期 | 2011.05.11 |
| 申请号 | CN201010535052.0 | 申请日期 | 2010.11.01 |
| 申请人 | NXP股份有限公司 | 发明人 | 约翰内斯·范·温格登;格雷亚·乔安娜·阿德里亚娜·玛利亚·费尔海登;格哈德·库普斯;约瑟夫·托马斯·马丁内斯·范贝克 |
| 分类号 | B81B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | B81B3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种包括衬底(10)的器件，所述衬底(10)在由盖层(18’、22)封盖的腔体(20)中承载微结构(15)，所述盖层包括结构式为SiNxHy的材料，其中x＞1.33并且y＞0。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||