WAFER DOUBLE-SIDE CLEANING AND DRYING APPARATUS WITH BIDIRECTIONAL STRAIGHT TYPE NOZZLES AND METHOD THEREOF,申请号KR20090008867-传众专利搜索

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发明名称	WAFER DOUBLE-SIDE CLEANING AND DRYING APPARATUS WITH BIDIRECTIONAL STRAIGHT TYPE NOZZLES AND METHOD THEREOF
摘要
申请公布号	KR101032912(B1)	申请公布日期	2011.05.06
申请号	KR20090008867	申请日期	2009.02.04
申请人		发明人
分类号	H01L21/302	主分类号	H01L21/302
代理机构		代理人
主权项
地址

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