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发明名称 Verfahren zur Einstellung der Aberrationen eines Apparats für die Teilchenstrahllithographie, Apparat für die Teilchenstrahllithographie, sowie Verfahren zur Herstellung von Produkten mit diesem Apparat
摘要
申请公布号 DE602006020797(D1) 申请公布日期 2011.05.05
申请号 DE200660020797T 申请日期 2006.01.26
申请人 CANON K.K.;HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORP. 发明人 MURAKI, MASATO;OHTA, HIROYA
分类号 H01J37/317;H01J37/304 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
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