发明名称 CVD-Reaktor mit auf einem mehrere Zonen aufweisenden Gaspolster liegenden Substrathalter
摘要 Die Erfindung betrifft einen CVD-Reaktor mit mindestens einem von einem Substrathalterträger (1) auf einen dynamischen Gaspolster (19) getragenen Substrathalter (2), der von der Rückseite her mit einer Heizung (30) beheizbar ist. Damit sich auf der Substrathalteroberfläche ein konvexes oder konkaves Temperaturprofil erzeugen lässt, wird vorgeschlagen, dass das Gaspolster (19) mehrere aneinandergrenzende Zonen (A, C) aufweist, die von individuellen Gaszuleitungen (7, 8) gespeist werden.
申请公布号 DE102009044276(A1) 申请公布日期 2011.05.05
申请号 DE20091044276 申请日期 2009.10.16
申请人 AIXTRON AG 发明人 KAEPPELER, JOHANNES;RUDA Y WITT, FRANCISCO
分类号 C23C16/458;C23C16/46 主分类号 C23C16/458
代理机构 代理人
主权项
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