发明名称 |
Verformungstechnologie in dreidimensionalen Transistoren auf der Grundlage global verformter Halbleiterbasisschichten |
摘要 |
Nicht-planare Transistoren, etwa FINFETs, werden auf der Grundlage eines global verformten Halbleitermaterials hergestellt, wodurch eine hohe uniaxiale Verformungskomponente in den resultierenden Halbleiterstegen beibehalten wird. Auf diese Weise kann eine deutliche Leistungssteigerung erreicht werden, ohne dass eine größere Prozesskomplexität beim Einrichten der FINFET-Transistoren entsteht.
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申请公布号 |
DE102009046246(A1) |
申请公布日期 |
2011.05.05 |
申请号 |
DE200910046246 |
申请日期 |
2009.10.30 |
申请人 |
GLOBALFOUNDRIES DRESDEN MODULE ONE LTD. LIABILITYCOMPANY & CO. KG;GLOBALFOUNDRIES INC. |
发明人 |
HOENTSCHEL, JAN;BEYER, SVEN;GRIEBENOW, UWE |
分类号 |
H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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