掩模坯料及其透明基片的制造方法,曝光掩模的制造方法

摘要

一种方法，包括：准备步骤，在该步骤中，准备具有精密抛光的主表面的透明基片；表面形状信息获取步骤，在该步骤中，作为表面形状信息，获取在和曝光装置的掩模台接触的透明基片的主表面上的多个测量点处的高度信息；模拟步骤，在步骤中，根据表面形状信息和掩模台的形状信息，通过模拟将透明基片装入到曝光装置上的状态，获取向多个测量点处的高度信息；平坦度计算步骤，在该步骤中，根据通过模拟活动物的高度信息，计算出当将其装入到曝光装置中时、所述透明基片的平坦度；判断步骤，在该步骤中，判断所计算出来的平坦度是否满足技术标准；以及薄膜形成步骤，在该步骤中，作为掩模图形，在其平坦度满足技术标准的透明基片的主表面上形成薄膜。

主权项

一种掩模坯料透明基片的制造方法，包括：准备步骤，在该步骤中，准备具有精密抛光的主表面的透明基片；表面形状信息获取步骤，在该步骤中，作为所述主表面的表面形状信息，在多个测量点获取距离基准平面的高度信息，其中，所述多个测量点设置在与曝光装置的掩模台接触的透明基片的主表面上的预定区域内；模拟步骤，在该步骤中，根据在表面形状信息获取步骤中获得的表面形状信息以及包括掩模台与透明基片的主表面接触的区域在内的掩模台的形状信息，通过模拟透明基片装入曝光装置的状态，在多个测量点处，获取距离所述基准平面的高度信息；平坦度计算步骤，在该步骤中，根据在模拟步骤中获得的距离所述基准平面的高度信息，推导出在包括曝光掩模的转印区域在内的预定区域中的最大值和最小值之间的差，从而获得当将透明基片装入曝光装置中时的透明基片的平坦度；以及判断步骤，在该步骤中，判断在平坦度计算步骤中计算出来的平坦度是否满足技术标准，通过使用材料力学中的变形量的微分方程的模拟，计算出在所述模拟步骤中获得的、将所述透明基片设置在所述曝光装置上时的多个所述测量点处的距离基准平面的高度信息，所述模拟步骤中获得的、将所述透明基片设置在所述曝光装置上时的多个所述测量点处的距离基准平面的高度信息通过以下方式求得，即，在所述表面形状信息获取步骤中获取的高度信息上，加上所述透明基片沿着X方向相对于作为支点的所述曝光装置的掩模台的翘曲以及透明基片由于重力而沿着X方向的变形量，再减去在透明基片与掩模台接触的沿着Y方向的区域内的透明基片的高度信息的平均值，其中，所述X方向是垂直于所述掩模台的纵向方向的方向，而Y方向是沿着所述掩模台的纵向方向的方向。