发明名称 |
产生磁性偏置场的多层薄膜结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种产生磁性偏置场的多层薄膜结构。其包括种子层与保护层;在种子层与保护层间可以设置至少一层磁性被钉扎层、至少一层非磁性钉扎层或是设置硬磁层;所述非磁性钉扎层为磁性被钉扎层提供磁性钉扎场,所述磁性钉扎场的方向与磁性偏置场的方向相同,磁性钉扎场能够保持磁性偏置场方向的稳定;当种子层与保护层间设置硬磁层时,种子层与保护层的外周面上缠绕有电流导线,电流导线在通入电流时,能够对硬磁层产生的磁性偏置场进行校正。本实用新型能够在受到较大外磁场干扰,并在外磁场撤掉后,所产生的磁性偏置场可以恢复,从而使磁性传感器系统可以正常工作,且没有功耗方面的损失。 |
申请公布号 |
CN201820566U |
申请公布日期 |
2011.05.04 |
申请号 |
CN201020217387.3 |
申请日期 |
2010.06.01 |
申请人 |
王建国;薛松生 |
发明人 |
王建国;薛松生 |
分类号 |
H01F10/10(2006.01)I;H01F10/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01F10/10(2006.01)I |
代理机构 |
无锡市大为专利商标事务所 32104 |
代理人 |
曹祖良 |
主权项 |
一种产生磁性偏置场的多层薄膜结构,其特征是,包括:种子层;至少一层磁性被钉扎层,所述磁性被钉扎层产生磁性偏置场;至少一层非磁性钉扎层,所述非磁性钉扎层为磁性被钉扎层提供磁性钉扎场,所述磁性钉扎场的方向与磁性偏置场的方向相同,磁性钉扎场能够保持磁性偏置场方向的稳定。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市新区长江路7号科技园一区无锡微磁传感科技有限公司 |