发明名称 滤色器的制造方法、带图案基板的制造方法及小型光掩模
摘要 一种滤色器的制造方法,按如下顺序多次重复至少如下工序:涂布工序,在基板上涂布由感光性树脂组成物构成的感光性树脂层;图案曝光工序,对感光性树脂层进行图案曝光并使其固化;显影工序,对感光性树脂层进行显影;以及烧成工序,使显影后的感光性树脂层热固化,形成滤波器节及黑矩阵,在上述曝光工序中,将激光用作光源,且经由用于形成像素的光掩模,以累积曝光量成为1~150mJ/cm2的方式进行接近式曝光。
申请公布号 CN102047152A 申请公布日期 2011.05.04
申请号 CN200980119437.4 申请日期 2009.04.30
申请人 凸版印刷株式会社 发明人 池田武司;青木英士;原田元气
分类号 G02B5/20(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I 主分类号 G02B5/20(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 夏斌;陈萍
主权项 一种滤色器的制造方法,其特征在于,按如下顺序多次重复至少如下工序:(a)涂布工序,在基板上涂布由感光性树脂组成物构成的感光性树脂层;(b)图案曝光工序,对上述基板上的感光性树脂层进行图案曝光并使其固化;(c)显影工序,除去上述感光性树脂层的未曝光(未固化)部分,并对曝光后的感光性树脂层进行显影;以及(d)烧成工序,使上述显影后的感光性树脂层热固化,形成滤波器节及黑矩阵,在上述曝光工序(b)中,将激光用作光源,且经由用于形成像素的光掩模,以累积曝光量成为1~150mJ/cm2的方式进行接近式曝光。
地址 日本东京都