离子镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种离子镀膜装置，涉及一种通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆的装置，尤其涉及离子镀膜装置，包括镀膜炉及设置在镀膜炉内的膜料，其特征是，所述镀膜炉内设有发射等离子体的离子源，离子源发射等离子体加热所述膜料，使之成为膜料蒸汽，均匀镀在玻璃片上，有效增强膜层强度，镀膜的致密性更好，降低了镜片生产过程中刮伤、点渍等不良发生率，有效提高制程良率；离子源设置在镀膜炉的中后部，有助于离子源离子发射角度的均匀性，实现均匀镀膜；混合气体中加入氩气，可增大离子密度，延长离子源灯丝的使用寿命。

主权项

一种离子镀膜装置，包括镀膜炉及设置在镀膜炉内的膜料，其特征是，所述镀膜炉内设有发射等离子体的离子源，离子源发射等离子体加热所述膜料，使之成为膜料蒸汽，均匀镀在玻璃片上。