| 发明名称 | 自适应光学设备和包括该自适应光学设备的成像设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及自适应光学设备和包括该自适应光学设备的成像设备。自适应光学设备包括：光调制单元，其被配置为在与被检物光学共轭的位置处调制光的两个偏振分量中的每一个偏振分量，所述光由光源发射；以及照射单元，其被配置为用被光调制单元调制的光照射被检物。 | ||
| 申请公布号 | CN102038490A | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
| 申请号 | CN201010515585.2 | 申请日期 | 2010.10.22 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 广濑太;齐藤贤一 |
| 分类号 | A61B3/15(2006.01)I;A61B3/12(2006.01)I | 主分类号 | A61B3/15(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 陈华成 |
| 主权项 | 一种自适应光学设备，包括：光调制单元，该光调制单元被配置为：在与被检物光学共轭的位置处调制光的两个偏振分量中的每一个偏振分量，所述光由光源发射；以及照射单元，该照射单元被配置为：用被光调制单元调制的光照射被检物。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||