| 发明名称 | 用于间隙流控制的涡流室 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于间隙流控制的涡流室，具体而言，提供了一种装置(10)，并且该装置包括：第一部件(20)，其带有从其表面(21)延伸的流转向部件(25)；以及设置在第一部件的附近的第二部件(30)，其中，在第二部件的表面(31)和流转向部件的远端(26)之间限定了间隙区域A，从而使得在第一和第二部件(20，30)的表面(21，31)之间形成流体路径(40)，流体(50)沿着该流体路径(40)以自上游区段(60)且通过间隙区域A的方式流动。第二部件形成为在上游区段(60)处限定双涡流室(70，80)，在双涡流室中，流体在被容许流过间隙区域A之前被引导成以涡流模式(75，85)流动。 | ||
| 申请公布号 | CN102042043A | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
| 申请号 | CN201010522411.9 | 申请日期 | 2010.10.14 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | J·约翰;S·K·贾因;S·K·赖 |
| 分类号 | F01D11/00(2006.01)I;F01D5/14(2006.01)I;F01D25/24(2006.01)I;F01D5/02(2006.01)I;F01D9/02(2006.01)I | 主分类号 | F01D11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;曹若 |
| 主权项 | 一种装置(10)，包括：第一部件(20)，该第一部件(20)带有从其表面(21)延伸的流转向部件(25)；以及设置在所述第一部件(20)的附近的第二部件(30)，其中，在所述第二部件(30)的表面(31)和所述流转向部件(25)的远端(26)之间限定了间隙区域A，从而使得在所述第一和第二部件(20，30)的表面(21，31)之间形成流体路径(40)，流体(50)沿着所述流体路径(40)以自上游区段(60)且通过所述间隙区域A的方式流动，所述第二部件(30)形成为在所述上游区段(60)处限定：双涡流室(70，80)，在所述双涡流室(70，80)中，所述流体(50)在被容许流过所述间隙区域A之前被引导成以涡流模式(75，85)流动。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||